1. 半導体 = 制御可能なスイッチ
第一原理
導体(銅線)は常にON。絶縁体(ゴム)は常にOFF。どちらもスイッチにならない。
半導体は電圧で導体/絶縁体を切り替えられる = 制御可能(controllable)
これがトランジスタ(transistor) — コンピュータの最小演算単位。1個のトランジスタ = 1個のON/OFFスイッチ。
💻 プログラミングで言うと
if (gate_voltage > threshold) {
current = ON; // 導体として振る舞う
} else {
current = OFF; // 絶縁体として振る舞う
}
📚 より詳しく
- YouTube: MOSFET(トランジスタ)の仕組み — 動画で構造を視覚的に理解
- Wikipedia: MOSFET — Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor の詳細
2. 小さくすると何が嬉しいか
NVIDIAのGPU(Graphics Processing Unit / 画像処理装置)H100には800億個のトランジスタが載っている。「7nm」「3nm」はトランジスタのゲート長 — 小さいほど高性能。
📐 重要な数式
- 消費電力: P = C × V² × f — C(ゲート容量)とV(動作電圧)が下がる。Vは二乗で効くのが重要
- スイッチング速度: τ ∝ R × C — RC時定数(R: 抵抗、C: 容量)が小さい→充放電が速い→クロック周波数を上げられる
📚 より詳しく
- Wikipedia: ムーアの法則 — 「トランジスタ数は約2年で倍増」を50年間続けた驚異の法則
- Wikipedia: デナードスケーリング — 微細化→省電力の物理的根拠。2006年頃に破綻し、マルチコア時代へ
3. 微細化の2つの壁
トランジスタを小さくし続けると、2つの異なる物理的限界にぶつかる。この区別が重要。
重要な区別
| 作る壁(製造) | 使う壁(物理) | |
|---|---|---|
| 問題 | パターンを描けない | 作っても動かない |
| 原因 | 光の回折限界 | 量子トンネル効果 |
| 解決 | EUV(Extreme Ultraviolet / 極端紫外線)リソグラフィ 波長: DUV 193nm → EUV 13.5nm |
GAA(Gate-All-Around)構造 ゲートでチャネルを全方向から囲む |
| 担い手 | ASML(オランダ、世界唯一のEUV製造企業) | TSMC(Taiwan Semiconductor Manufacturing Company)/ Samsung |
📚 より詳しく
- YouTube: ASML EUV lithography explained — EUV露光装置の仕組みを映像で理解
- Wikipedia: Gate-all-around transistor — FinFET→GAAへの構造変化の技術的詳細
- Wikipedia: 量子トンネル効果 — なぜ電子は壁をすり抜けるのか(波動関数の減衰)
4. なぜNVIDIAは工場を持たないか
半導体産業はファブレス(fabless = fab + less / 工場なし、設計専業)とファウンドリ(foundry / 受託製造専業)に分業している。
経済原理
最先端ファブ(fab = fabrication facility / 半導体製造工場)の建設費: $20-30B(3-4兆円)
1社では稼働率が埋まらない → 複数顧客で分担 = マルチテナントのクラウドと同じ論理
昔は「持たない」(戦略的選択)→ 今は「持てない」(物理的・経済的に不可能)
Intel(インテル)は自社ファブを維持しようとして微細化で2世代遅れた — 反面教師。
📚 より詳しく
- Wikipedia: Fabless manufacturing — ファブレスモデルの歴史と構造
- Wikipedia: TSMC — 1987年設立、モリス・チャンが生み出したファウンドリモデルの歴史
5. メモリの物理 — なぜ階層があるか
コンピュータには速度の異なる記憶装置が階層的に存在する。速いほど高コストで容量が小さいというトレードオフがある。
DRAM vs NAND — 物理的な違い
| DRAM(Dynamic Random Access Memory) | NAND フラッシュ(SSD) | |
|---|---|---|
| 物理的仕組み | コンデンサ(キャパシタ)に電荷を溜める | 浮遊ゲート(floating gate)に電子を閉じ込める |
| 速度 | ~100ns(ナノ秒 = 10⁻⁹秒) | ~50,000ns(DRAMの500倍遅い) |
| 電源切ると | 消える(揮発性)— コンデンサの電荷が漏れるため | 残る(不揮発性)— 絶縁膜で電子を閉じ込めるため |
| 1GBあたりコスト | 高い | 安い |
| 身近な例 | MacBook の「16GB メモリ」 | SSD(Solid State Drive)、USBメモリ |
物理的な仕組みが違うから、速度と永続性のトレードオフが生まれる。どちらが良い悪いではなく、用途が違う。
📚 より詳しく
- YouTube: DRAMの仕組み — コンデンサとトランジスタで1ビットを記憶する仕組み
- YouTube: NANDフラッシュの仕組み — 浮遊ゲートに電子を閉じ込める原理
- Wikipedia: Memory hierarchy — レジスタからHDDまでの速度・コスト・容量の関係
6. HBM(High Bandwidth Memory / 広帯域メモリ) — メモリウォールの突破
GPU(Graphics Processing Unit)の演算速度は毎年2-3倍で向上するが、DRAMの帯域幅は毎年1.1-1.2倍程度。この差が「メモリウォール(Memory Wall)」— GPUがデータ待ちで暇になる問題。
HBMの解決策は物理的に2つ:
- 距離を縮める: DRAMチップをGPUの隣に直接配置(数cm → 数mm)
- 道幅を広げる: TSV(Through-Silicon Via / シリコン貫通電極)でDRAMチップを縦に貫通し、バス幅を64bit→1024bitに拡大(16倍)
💻 プログラミングで言うと
// 従来DRAM = リモートAPI呼び出し(遠い・細い)
data = remote_api.fetch(bus_width=64) // ~50 GB/s
// HBM = ローカル変数(近い・太い)
data = local_memory.read(bus_width=1024) // ~4,800 GB/s(約100倍)
歩留まり(yield / 良品率)の数学
HBMはDRAMチップを8〜16層に積層する。全層が良品でないと製品にならない。
1層の歩留まり = 95% のとき:
- HBM3e(8層): 0.95⁸ = 66% → 3個に1個が不良
- HBM4(16層): 0.95¹⁶ = 44% → 半分以上が不良!
→ だからHBMを量産できるのは世界3社だけ: SK Hynix(韓国、シェア53-57%)/ Samsung(韓国)/ Micron(米国)= 構造的ボトルネック
📚 より詳しく
- YouTube: HBM explained — 積層構造とTSVの仕組みを映像で理解
- Wikipedia: High Bandwidth Memory — HBM1→HBM2→HBM3→HBM3e→HBM4の進化史
- Wikipedia: Through-Silicon Via (TSV) — シリコン貫通電極の製造技術
- Samsung: HBM製品ページ — 積層の断面図・スペック詳細
7. バリューチェーン — 今どこまで見えたか
上流3レイヤー(設計→製造→メモリ)を第一原理から理解した。次回はパッケージング(CoWoS: Chip on Wafer on Substrate)以降の下流を学ぶ。
📖 このページの用語集
| 略語 | 正式名称 | 一言で |
|---|---|---|
| GPU | Graphics Processing Unit | 並列計算に特化したプロセッサ。AIの学習に必須 |
| DRAM | Dynamic Random Access Memory | 高速だが揮発性のメモリ。PCの「16GBメモリ」はこれ |
| NAND | Not AND(論理ゲートの種類に由来) | 不揮発性のフラッシュメモリ。SSD/USBメモリ |
| HBM | High Bandwidth Memory | DRAMを積層してGPU隣に配置。帯域100倍 |
| TSV | Through-Silicon Via | シリコンチップを貫通する電極。HBMの積層に必須 |
| EUV | Extreme Ultraviolet | 波長13.5nmの極端紫外線。微細パターンの描画に使用 |
| DUV | Deep Ultraviolet | 波長193nmの深紫外線。EUVの前世代 |
| GAA | Gate-All-Around | ゲートがチャネルを全周囲むトランジスタ構造。リーク対策 |
| TSMC | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company | 世界最大のファウンドリ。先端品シェア90%+ |
| ASML | Advanced Semiconductor Materials Lithography | EUV露光装置の唯一の製造企業(オランダ) |
| CoWoS | Chip on Wafer on Substrate | TSMCの先進パッケージング技術(次回学習) |
🧠 セルフチェック
Q1: なぜ半導体の「中間」であることが嬉しいのか?
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電圧で導体/絶縁体を切り替えられる = 制御可能(controllable)だから。固定のON/OFFではスイッチにならない。
Q2: 微細化で省電力になる物理的理由は? 数式で答えよ。
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P = C × V² × f。トランジスタが小さくなるとゲート容量Cが下がり、動作電圧Vも下げられる。特にVは二乗で効く。
Q3: 「作る壁」と「使う壁」の違いは? それぞれの物理的原因と解決者は?
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作る壁 = 光の回折限界(パターンが描けない)→ ASML(EUV露光装置)。使う壁 = 量子トンネル効果(リーク電流)→ TSMC/Samsung(GAA構造)。
Q4: NVIDIAがファブを「持てない」経済的理由は?
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最先端ファブは$20-30B。この固定費を回収するには大量のウェハが必要だが、NVIDIA単独では稼働率が埋まらない。複数顧客で分担する方が合理的(=クラウドの論理)。
Q5: HBM(High Bandwidth Memory)がメモリウォールを解決する物理的メカニズムは?
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①DRAMをGPU隣に配置(距離: 数cm→数mm)②TSV(シリコン貫通電極)で縦に接続してバス幅16倍(64→1024bit)。結果: 帯域約100倍(50→4,800 GB/s)。
Q6: HBM4(16層積層)の歩留まりが低い理由を、確率で説明せよ。
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各層の歩留まり95%として、全16層が良品である確率 = 0.95¹⁶ = 44%。半分以上が不良品になる。層数が増えるほど指数的に悪化する。